| Titre : | La pulverisation cathodique industrielle | | Type de document : | texte imprimé | | Auteurs : | Christian Manasterski, Auteur | | Editeur : | Lausanne : Presses Polytechniques et Universitaires Romandes | | Année de publication : | 2005 | | Importance : | 217 p. | | Présentation : | couv. ill. en coul. | | Format : | 24 cm. | | ISBN/ISSN/EAN : | 9782880746248 | | Langues : | Français (fre) | | Mots-clés : | Pulvérisation cathodique : Applications industrielles | | Index. décimale : | 05-12 Physique des métaux | | Résumé : | La pulvérisation cathodique est devenue aujourd'hui une technique incontournable de traitement des surfaces. Ce livre offre une approche pluridisciplinaire de cette technique, permettant ainsi de l'examiner sous plusieurs aspects : une approche scientifique simplifiée permettant d'expliquer et de comprendre les principaux phénomènes physiques liés aux conditions de vide ; une approche technique sur les différents types de dépôts, sur le matériel nécessaire, son rôle, son fonctionnement, sa maintenance ; et enfin une approche économique donnant des éléments comme le calcul des coûts, la mise en place d'une gestion de production, qui sont nécessaires à l'exploitation industrielle et à la rentabilisation financière de ces procédés. Insistant sur les aspects pratiques et pédagogiques, cet ouvrage intéressera un large public d'étudiants, de techniciens, d'ingénieurs et de chefs d'entreprise. | | Note de contenu : | SOMMAIRE
-Introduction générale
Chapitre 1 Le vide:
1.1 Physique du vide et des basses pressions
1.2 Production du vide
1.3 Mesure et analyse du vide
Chapitre 2 Matériels et maintenance:
2.1 Matériels composant une installation à vide
2.2 La maintenance du matériel
Chapitre 3 Les différents types de dépôts physiques:
3.1 L'évaporation sous vide
3.2 Le sputtering ou pulvérisation cathodique
3.3 L'ion plating
3.4 Les autres techniques de dépôts PVD
3.5 Notions sur les dépôts CVD
3.6 Les principales applications des dépôts PVD
3.7 Définitions de l'épitaxie
Chapitre 4 La préparation des pièces:
4.1 Les opération de décapage
4.2 Les opérations de dégraissage
4.3 Conception et utilisation d'une chaîne de nettoyage
4.4 Sous-couches galvaniques
Chapitre 5 Dépôt PDV, gammes et programmes:
5.1 Notions préliminaires
5.2 Description et programmation des processus
5.3 Amélioration de l'adhérence par bombardement
Chapitre 6 Propriétés et contrôles des couches PVD:
6.1 Structure des couches PVD
6.2 Adhérence des couches PVD
6.3 Épaisseur des couches PVD
6.4 Dureté et ductilité des couches PVD
6.5 Résistance à l'usure des couches PVD
6.6 Résistance à la corrosion/porosité
6.7 Brillance, réflectivité et couleurs des couches PVD
6.8 Répartition, pénétration et nivelance des couches
6.9 Conductibilité électrique des couches PVD
6.10 Possibilités de démétallisation des couches PVD
Chapitre 7 Exploitation et productivité d'une unité PVD:
7.1 Installation et exploitation d'une unité PVD
7.2 Productivité des dépôts PVD
7.3 Aspects économiques des dépôts PVD
Chapitre 8 Annexes
8.1 Les brevets
8.2 Éléments techniques
-Index |
La pulverisation cathodique industrielle [texte imprimé] / Christian Manasterski, Auteur . - Lausanne : Presses Polytechniques et Universitaires Romandes, 2005 . - 217 p. : couv. ill. en coul. ; 24 cm. ISSN : 9782880746248 Langues : Français ( fre) | Mots-clés : | Pulvérisation cathodique : Applications industrielles | | Index. décimale : | 05-12 Physique des métaux | | Résumé : | La pulvérisation cathodique est devenue aujourd'hui une technique incontournable de traitement des surfaces. Ce livre offre une approche pluridisciplinaire de cette technique, permettant ainsi de l'examiner sous plusieurs aspects : une approche scientifique simplifiée permettant d'expliquer et de comprendre les principaux phénomènes physiques liés aux conditions de vide ; une approche technique sur les différents types de dépôts, sur le matériel nécessaire, son rôle, son fonctionnement, sa maintenance ; et enfin une approche économique donnant des éléments comme le calcul des coûts, la mise en place d'une gestion de production, qui sont nécessaires à l'exploitation industrielle et à la rentabilisation financière de ces procédés. Insistant sur les aspects pratiques et pédagogiques, cet ouvrage intéressera un large public d'étudiants, de techniciens, d'ingénieurs et de chefs d'entreprise. | | Note de contenu : | SOMMAIRE
-Introduction générale
Chapitre 1 Le vide:
1.1 Physique du vide et des basses pressions
1.2 Production du vide
1.3 Mesure et analyse du vide
Chapitre 2 Matériels et maintenance:
2.1 Matériels composant une installation à vide
2.2 La maintenance du matériel
Chapitre 3 Les différents types de dépôts physiques:
3.1 L'évaporation sous vide
3.2 Le sputtering ou pulvérisation cathodique
3.3 L'ion plating
3.4 Les autres techniques de dépôts PVD
3.5 Notions sur les dépôts CVD
3.6 Les principales applications des dépôts PVD
3.7 Définitions de l'épitaxie
Chapitre 4 La préparation des pièces:
4.1 Les opération de décapage
4.2 Les opérations de dégraissage
4.3 Conception et utilisation d'une chaîne de nettoyage
4.4 Sous-couches galvaniques
Chapitre 5 Dépôt PDV, gammes et programmes:
5.1 Notions préliminaires
5.2 Description et programmation des processus
5.3 Amélioration de l'adhérence par bombardement
Chapitre 6 Propriétés et contrôles des couches PVD:
6.1 Structure des couches PVD
6.2 Adhérence des couches PVD
6.3 Épaisseur des couches PVD
6.4 Dureté et ductilité des couches PVD
6.5 Résistance à l'usure des couches PVD
6.6 Résistance à la corrosion/porosité
6.7 Brillance, réflectivité et couleurs des couches PVD
6.8 Répartition, pénétration et nivelance des couches
6.9 Conductibilité électrique des couches PVD
6.10 Possibilités de démétallisation des couches PVD
Chapitre 7 Exploitation et productivité d'une unité PVD:
7.1 Installation et exploitation d'une unité PVD
7.2 Productivité des dépôts PVD
7.3 Aspects économiques des dépôts PVD
Chapitre 8 Annexes
8.1 Les brevets
8.2 Éléments techniques
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